एक क्षैतिज पतली फिल्म बाष्पीकरण सुविधाएँ

वैक्यूम दबाव ड्रॉप छोटा है: सामग्री वाष्पीकृत गैस को हीटिंग सतह से बाहरी कंडेनसर में भेजा जाता है, और एक निश्चित दबाव अंतर होता है। कम परिचालन तापमान: वैक्यूम में वृद्धि के कारण, संबंधित सामग्री का क्वथनांक तेजी से गिरता है। इसलिए, ऑपरेशन कम तापमान पर किया जा सकता है, जो उत्पाद के थर्मल अपघटन को कम करता है। कम ताप समय: वाइपर फिल्म बाष्पीकरण की अनूठी संरचना के कारण, फिल्म वाइपर में एक पंपिंग प्रभाव होता है, जो बाष्पीकरण में सामग्री के निवास समय को बहुत कम कर देता है; उच्च वाष्पीकरण की तीव्रता: सामग्री का क्वथनांक कम हो जाता है, और ताप माध्यम बढ़ जाता है। तापमान अंतराल; फिल्म वाइपर का कार्य एक अशांत अवस्था में तरल फिल्म की मोटाई को कम करता है और थर्मल प्रतिरोध को कम करता है। इसी समय, इस प्रक्रिया में, सामग्री को हीटिंग सतह पर दीवार और स्केलिंग से रोका जाता है, और अच्छी गर्मी विनिमय के साथ, इसलिए, स्क्रैप किए गए फिल्म बाष्पीकरण के समग्र गर्मी हस्तांतरण गुणांक में सुधार होता है। बड़े ऑपरेटिंग लचीलेपन: स्क्रैपेड फिल्म बाष्पीकरण के अनूठे प्रदर्शन के कारण यह ठीक है कि यह गर्मी-संवेदनशील प्रसंस्करण के लिए उपयुक्त है और एकाग्रता में वृद्धि के साथ स्थिर वाष्पीकरण, उच्च चिपचिपाहट और तेजी से बढ़ती चिपचिपाहट की मांग करता है। वाष्पीकरण प्रक्रिया भी सुचारू रूप से वाष्पित हो सकती है। यह ठोस कणों, क्रिस्टलीकरण, पोलीमराइजेशन और स्केलिंग युक्त सामग्रियों के वाष्पीकरण और आसवन के लिए सफलतापूर्वक लागू किया जा सकता है।

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