स्क्रैपर फिल्म वाष्पीकरण का कार्य सिद्धांत

सामग्री लगातार बड़े व्यास अंत से क्षैतिज वाष्पीकरण में प्रवेश करती है, वाइपर द्वारा त्वरित और वितरित की जाती है, और तुरंत हीटिंग सतह पर एक पतली बहने वाली फिल्म बनाती है। शंकुपूर्ण पतली फिल्म वाष्पीकरण सामग्री के लिए रोटर द्वारा लागू एक अपकेंद्रित्र बल पर निर्भर करता है। इस अपकेंद्रित्र बल में दो प्रभावी बल होते हैं, एक हीटिंग सतह पर लंबवत और दूसरा बड़े व्यास अंत शरीर की ओर (नोट: एक ही परिणाम पतली फिल्म वाष्पीकरण में ऊर्ध्वाधर शंकु में भी दिखाई देता है, इन ताकतों द्वारा सामग्री को त्वरित किया जाता है, और आने वाली सामग्री यह सुनिश्चित करती है कि हीटिंग सतह पूरी तरह से नम है, और वाष्पीकरण अनुपात या फ़ीड दर पर निर्भर नहीं करती है। इसलिए, स्थानीय सामग्री ओवरहीटिंग और थर्मल क्षरण कम हो जाता है या पूरी तरह से समाप्त हो जाता है। इस प्रक्रिया में, हल्के घटक (कम बॉयलर) क्षैतिज पतली-फिल्म वाष्पीकरण के माध्यम से नीचे प्रवाह (तरल फिल्म के रूप में एक ही दिशा में) प्रवाहित होते हैं और वाष्प-तरल विभाजक में प्रवेश करते हैं, जहां वाष्प-तरल पृथक्करण द्वारा उत्पादित तरल बूंदें और बुलबुले होते हैं, यह कुचल दिया जाता है और तरल चरण (उच्च बॉयलर) में प्रवेश करता है, और अलग वाष्प बाहरी कंडेनसर या अगली प्रक्रिया में प्रवेश करता है; पुनः संयोजन घटक (उच्च बॉयलर) छोटे अंत आउटलेट के लिए हीटिंग दीवार के साथ चढ़ते हैं और छुट्टी दे दी जाती है।

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